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图奥莫·松托拉

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图奥莫·松托拉
Tuomo Suntola

Tuomo Suntola
出生1943年
 芬兰坦佩雷
国籍 芬兰
母校赫尔辛基理工大学
知名于原子层沉积
奖项千禧年科技奖(2018年)
骑士一级芬兰雄狮勋章
科学生涯
研究领域材料科学

图奥莫·松托拉芬兰语Tuomo Suntola,1943年),芬兰发明家和技术领先人物,以其在材料科学方面的开拓性研究而著称。他开发了名为“原子层沉积”的薄膜增长技术,并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖[1]

参考文献

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外部链接

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