File:Trench doubling.svg
此SVG文件的PNG预览的大小：392 × 487像素。 其他分辨率：193 × 240像素 | 386 × 480像素 | 618 × 768像素 | 824 × 1,024像素 | 1,648 × 2,048像素。
原始文件 （SVG文件，尺寸为392 × 487像素，文件大小：3 KB）
摘要
| 描述 |
English: The basic process for doubling trenches or holes.
|
| 日期 | |
| 来源 | Based on the JPG drawing. SVG: 自己的作品 |
| 作者 |
JPG Drawing: Guiding light at en.wikipedia |
| 其他版本 |
 |
许可协议
我，本作品著作权人，特此采用以下许可协议发表本作品：
|
已授权您依据自由软件基金会发行的无固定段落及封面封底文字（Invariant Sections, Front-Cover Texts, and Back-Cover Texts）的GNU自由文件许可协议1.2版或任意后续版本的条款，复制、传播和／或修改本文件。该协议的副本请见“GNU Free Documentation License”。 |
本文件采用知识共享署名 3.0 未本地化版本许可协议授权。
- 您可以自由地：
- 共享 – 复制、发行并传播本作品
- 修改 – 改编作品
- 惟须遵守下列条件：
- 署名 – 您必须对作品进行署名，提供授权条款的链接，并说明是否对原始内容进行了更改。您可以用任何合理的方式来署名，但不得以任何方式表明许可人认可您或您的使用。
您可以选择您需要的许可协议。
文件历史
点击某个日期/时间查看对应时刻的文件。
| 日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 当前 | 2011年11月26日 (六) 10:48 | | 392 × 487（3 KB） | Wdwd | == {{int:filedesc}} == {{Information |Description={{en|The basic process for doubling trenches or holes. * Top: Photoresist is coated over the starting trench or hole pattern. * Center: Holes or trenches are exposed and etched into the underlying layer. * |
文件用途
以下页面使用本文件：
全域文件用途
以下其他wiki使用此文件：
- en.wikipedia.org上的用途
